產(chǎn)品中心
-
PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)。該產(chǎn)品是由固態(tài)等離子源、氣體質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、襯底控溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)組成，采用集中總線控制技術(shù)的諾巴迪操作軟件。適用于室溫至1200℃條件下進行SiO2、SiNx薄膜的沉積，同時可實現(xiàn)TEOS源沉積，SiC膜層沉積以及液態(tài)氣態(tài)源沉積其它材料，尤其適合于有機材料上高效保護層膜和特定溫度下無損傷鈍化膜的沉積。
更新時間：2025-12-01 型號：NBD-PECVD1200-80TI
共 1 條記錄，當前 1 / 1 頁 首頁 上一頁 下一頁 末頁 跳轉(zhuǎn)到第頁
